1、首先先准备待加工样品,然后在在待加工样品上涂覆一层底层电子束抗蚀剂,在底层的电子束抗蚀剂上形成金属层;
2、在底层的电子束抗蚀剂上形成金属层,在金属层上涂覆一层顶层电子束抗蚀剂;
3、紧接着就是在顶层电子束抗蚀剂上面形成所需要的纳米尺寸的曝光图形,这样就差不多了。
4、最后用顶层电子束抗蚀剂做掩膜刻蚀金属层及底层电子束抗蚀剂将曝光图形转移到待加工样品上
1、首先先准备待加工样品,然后在在待加工样品上涂覆一层底层电子束抗蚀剂,在底层的电子束抗蚀剂上形成金属层;
2、在底层的电子束抗蚀剂上形成金属层,在金属层上涂覆一层顶层电子束抗蚀剂;
3、紧接着就是在顶层电子束抗蚀剂上面形成所需要的纳米尺寸的曝光图形,这样就差不多了。
4、最后用顶层电子束抗蚀剂做掩膜刻蚀金属层及底层电子束抗蚀剂将曝光图形转移到待加工样品上